Phenom Pharos G2 —— 效能優越的飛納臺式場發射掃描電鏡

荷蘭飛納公司推出第二代肖特基場發射電子源臺式掃描電鏡 Phenom Pharos G2, 集背散射電子成像│↟•、二次電子成像和能譜分析功能於一體☁•。高亮度肖特基場發射電子源☁✘╃◕✘，使使用者可以輕鬆獲得高解析度影象☁✘╃◕✘，且低電壓效能優異☁•。Phenom Pharos G2 低電壓成像優勢明顯☁✘╃◕✘，可減輕電子束對樣品的損傷和穿透☁✘╃◕✘，更好地觀測絕緣和電子束敏感的樣品☁✘╃◕✘，可以還原樣品真實形貌☁•。

Phenom Pharos G2 —— 電鏡能譜一體化設計

Phenom Pharos 飛納臺式場發射電鏡採用熱場發射電子源☁✘╃◕✘，信噪比高☁✘╃◕✘，使用壽命長☁✘╃◕✘，保證長期穩定的效能☁•。飛納臺式場發射掃描電鏡能譜一體機標配背散射電子成像│↟•、二次電子電子成像和能譜分析功能☁✘╃◕✘，可對各種樣品進行高分辨成像及元素分析☁•。

飛納臺式場發射電鏡的技術優勢

• 解析度優於 1.5 nm

• 低電壓下可得到高分辨樣品的影象☁✘╃◕✘，表面細節豐富

• 彩色光學顯微鏡全景導航

• 整合全自動馬達樣品臺

• 操作簡單☁✘╃◕✘，培訓 30 分鐘即可上手

• 內建真空鎖☁✘╃◕✘，15 秒抽真空

• 無需噴金☁✘╃◕✘，直接觀察不導電樣品

• 電子束流大☁✘╃◕✘，穩定☁✘╃◕✘，能譜分析效率高

• 內建 27 組獨立減震單元☁✘╃◕✘，*防震

• 電子光路免維護

維護成本低

飛納電鏡系列產品效能穩定☁✘╃◕✘，可以長時間工作☁✘╃◕✘，自動化程度高☁✘╃◕✘，大量節省了人力成本☁•。飛納臺式場發射掃描電鏡的燈絲使用穩定☁✘╃◕✘，壽命長☁✘╃◕✘，電子光路免維護☁✘╃◕✘，後期維護簡單☁•。飛納電鏡系列產品加入了硬體防護設計☁✘╃◕✘，杜絕人為操作不當引起裝置故障；同時☁✘╃◕✘，提供免費的遠端聯網檢測☁✘╃◕✘，實時維護您的電鏡☁•。